高純度半導體用鈦靶材-建立國產靶材供應鏈

09 / 13 . 2017
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高熔點/高純度金屬濺鍍用材料主要以電子束熔煉技術製程,現今常被運用在高純度、高熔點、高活性金屬材料的產製,如:鉬、鈦、鉭、鎢、鈮、釩等材料,利用電子束熔煉時之密度分離、除氣與蒸氣壓分離等方式,可解離金屬中雜質以達到4N以上之超高純度。

中科院具國內第一大功率電子束熔煉/精煉量產製程技術/設備,藉此整合國內上游(機械設備商)、中游(原料商、靶材製造商)及下游(通路商),建立國內高熔點/高純度金屬濺鍍用靶材產業鏈,擬積極推廣應用於光電半導體製程用材料,取代國外進口市場。